液化石油气铜片腐蚀测定仪型号：SYC-0232本仪器按照SH/T0232《液化石油气铜片腐蚀试验方法》标准，测定液化石油气对铜的腐蚀性。主要特点：1、A、B阀由1Cr18Ni9Ti材料制成，耐压7.0Mpa。2、圆筒由1Cr18Ni9Ti材料制成，采用O型圈和紫铜垫双重密封，容量约160毫升。3、水浴由1Cr18Ni9Ti材料制成，同时可放两只试验圆筒。4、浴内安装电加热器及电动搅拌装置，由温控仪自动控温，能满足试验温度40±0.5℃。一次可放两只试验圆筒。5、...

覆膜砂结壳性能测试仪型号：FKS-11、仪器用途：检测覆膜砂材料结壳速度和起皮状况2、仪器外形尺寸：330×300×440（mm）3、供电：交流220V，50HZ加热功率1500W4、仪器工作原理：将覆膜砂撒在加热板上，经过一定时间之后，加热板旋转90。或180。移去未结壳的松散砂，然后测量结壳厚度，并可观察表层砂的翘起情况。

水质溴酸盐快速检测仪型号：GDYS-104SI应用领域：适用于臭氧消毒后的纯净水、矿物质水和矿泉水中溴酸盐的定量测定。技术指标1.光源：高亮发光二管2.波长：528nm3.测定下限：0.004mg/L4.测量范围：0.000～0.040mg/L5.测量精度：±0.002mg/L6.电源：AC（220V±22V，50Hz±1Hz）7.尺寸：470x280x180mm8.重量：3.8kg仪器配置1.样品前处理设备1套2.数据分析软件1套3...

全自动发动机冷却液冰点测定仪型号：SYC-0090B本仪器是按照中华人民共和国石化行业标准SH/T0090《发动机冷却液冰点测定法》规定的要求设计制造的。用于发动机冷却液及其浓缩液冰点等指标的测定，是一款多用途的冰点测定仪。主要技术指标：工作电源：AC220V±10%；50Hz工作冷槽：双层真空玻璃浴槽冷槽控温：室温～-70℃控温精度：±0.5℃浴液搅拌：搅拌电机自动搅拌，功率6W，1200r/min制冷系统：新型制冷压缩机试样搅拌：同步减速电机，...

发动机冷却液冰点测定仪型号：SYC-0090A本仪器是按照中华人民共和国石化行业标准SH/T0090《发动机冷却液冰点测定法》规定的要求设计制造的。用于发动机冷却液及其浓缩液冰点等指标的测定，是一款多用途的冰点测定仪。主要技术指标：工作电源：AC220V±10%；50Hz工作冷槽：双层真空玻璃浴槽冷槽控温：室温～-70℃控温精度：±0.5℃浴液搅拌：搅拌电机自动搅拌，功率6W，1200r/min制冷系统：新型制冷压缩机试样搅拌：同步减速电机，60次...

烤胶机烘胶机型号：SC-HSC系列烤胶机(热板)适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。热板温度稳定度高，重复性好。可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。产品主要特点：1、稳定性能非常好，温度稳定度可达±0.5℃。2、温度调节范围宽：室温-500℃2、采用闭环控制，升温速度快。3、具有定时功能。同时带显示功能。4、采用数字按键控制温度与时间，温度与时间设定更加。5、机身全部采用不锈钢，耐酸耐碱...

匀胶机旋涂机甩胶机型号：KW-4B台式匀胶机：（SpinCoater)适合半导体硅片的匀胶镀膜等其用途广泛包括适合硅片,晶片,基片,ITO导电玻璃等各种胶体的工艺制版表面涂覆或光刻工艺匀胶。详细介绍：匀胶机(英文名：SpinCoater)行业俗称:匀胶台,甩胶机,涂胶机,镀膜机,涂层机,旋涂机,旋涂仪等。产品概述:同德品牌KW型匀胶机适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆.Ⅰ档调速范围：10-10000转／分1、调速范围和匀胶时间：Ⅰ档匀胶...

数字匀胶机型号：TJ800产品特点：本产品适用于涂胶和甩匀等工艺，它采用电源控制器，通过设定键可随意调节转速与时间，启动快、转速稳定、时间，并可长时间连续稳定工作。使用本产品可以有效控制胶的厚度，并具有很好的均匀性、一致性。本产品操作方便、稳定性高，具有较高的性能价格比，可广泛应用于科研生产。【备注】：数字匀胶机TJ800的主要技术参数见下表：项目参数匀胶样片尺寸300×100mm转速设置范围300—9000转/分匀胶时间设置范围1—3600秒胶的不均匀性≤±3...

数字匀胶机自动匀胶机型号：TJ1200产品特点：数字匀胶机是用于半导体，集成电路及激光全息商标制造过程中，在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上进行涂布光刻（感光）胶的设备。本机的工作原理是利用高速旋转时产生的离心力，将滴于基片上多余的光刻（感光）胶液甩去，在光刻（感光）胶表面张力和离心力的共同作用下，展成厚度均匀的胶膜。本机具有匀胶效率高、使用方便等优点，匀胶速度和匀胶时间分别可调，电器电路具有较高的稳定性，结构合理，旋转平稳，转速、时间采用数字显示，直观性强。本机可与光刻...

净化型匀胶机型号CKF-411净化匀胶机是适合半导体硅片的匀胶镀膜等其用途广泛包括适合半导体大型晶圆硅片,芯片,晶片,等各种胶体的工艺制版表面涂覆或光刻工艺匀胶。是集成电路及半导体件生产过程中涂复光致抗腐蚀剂的设备设备中涂胶部分四个工位单片微型机控制四个工位同时工作或分别工作，即各工位的运转单独传动，转数单独调节及单独显示。为保证在涂胶工艺中不飞片，设备中吸头和气泵中间有四个电磁阀，同时增加一个负压储气罐，保证了吸片牢固和可靠性。设备中配有的空气净化装置。主要技术指标：匀胶工...