匀胶机旋涂机甩胶机型号：KW-4B台式匀胶机：（SpinCoater)适合半导体硅片的匀胶镀膜等其用途广泛包括适合硅片,晶片,基片,ITO导电玻璃等各种胶体的工艺制版表面涂覆或光刻工艺匀胶。详细介绍：匀胶机(英文名：SpinCoater)行业俗称:匀胶台,甩胶机,涂胶机,镀膜机,涂层机,旋涂机,旋涂仪等。产品概述:同德品牌KW型匀胶机适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆.Ⅰ档调速范围：10-10000转／分1、调速范围和匀胶时间：Ⅰ档匀胶...

匀胶机旋涂机甩胶机型号：KW-4C台式匀胶机：（SpinCoater)适合半导体硅片的匀胶镀膜等其用途广泛包括适合硅片,晶片,基片,ITO导电玻璃等各种胶体的工艺制版表面涂覆或光刻工艺匀胶。详细介绍：匀胶机(英文名：SpinCoater)行业俗称:匀胶台,甩胶机,涂胶机,镀膜机,涂层机,旋涂机,旋涂仪等。产品概述:同德品牌KW型匀胶机适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆.1、4.3寸24位真彩色触摸屏1、人机界面和编程模式：2、带USB口...

匀胶机旋涂机甩胶机型号：KW-4B台式匀胶机：（SpinCoater)适合半导体硅片的匀胶镀膜等其用途广泛包括适合硅片,晶片,基片,ITO导电玻璃等各种胶体的工艺制版表面涂覆或光刻工艺匀胶。详细介绍：匀胶机(英文名：SpinCoater)行业俗称:匀胶台,甩胶机,涂胶机,镀膜机,涂层机,旋涂机,旋涂仪等。产品概述:同德品牌KW型匀胶机适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆.特色功能：1.德国进口高精度电机Ⅰ档调速范围：500-8500转／分...

数字匀胶机匀胶机型号：TJ800产品特点：本产品适用于涂胶和甩匀等工艺，它采用电源控制器，通过设定键可随意调节转速与时间，启动快、转速稳定、时间，并可长时间连续稳定工作。使用本产品可以有效控制胶的厚度，并具有很好的均匀性、一致性。本产品操作方便、稳定性高，具有较高的性能价格比，可广泛应用于科研生产。【备注】：数字匀胶机TJ800的主要技术参数见下表：项目参数匀胶样片尺寸300×100mm转速设置范围300—9000转/分匀胶时间设置范围1—3600秒胶的不均匀性≤&plusm...

数字匀胶机自动匀胶机型号：TJ1200产品特点：数字匀胶机是用于半导体，集成电路及激光全息商标制造过程中，在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上进行涂布光刻（感光）胶的设备。本机的工作原理是利用高速旋转时产生的离心力，将滴于基片上多余的光刻（感光）胶液甩去，在光刻（感光）胶表面张力和离心力的共同作用下，展成厚度均匀的胶膜。本机具有匀胶效率高、使用方便等优点，匀胶速度和匀胶时间分别可调，电器电路具有较高的稳定性，结构合理，旋转平稳，转速、时间采用数字显示，直观性强。本机可与光刻...

净化型匀胶机型号CKF-411净化匀胶机是适合半导体硅片的匀胶镀膜等其用途广泛包括适合半导体大型晶圆硅片,芯片,晶片,等各种胶体的工艺制版表面涂覆或光刻工艺匀胶。是集成电路及半导体件生产过程中涂复光致抗腐蚀剂的设备设备中涂胶部分四个工位单片微型机控制四个工位同时工作或分别工作，即各工位的运转单独传动，转数单独调节及单独显示。为保证在涂胶工艺中不飞片，设备中吸头和气泵中间有四个电磁阀，同时增加一个负压储气罐，保证了吸片牢固和可靠性。设备中配有的空气净化装置。主要技术指标：匀胶工...

多功能食品安全综合检测仪农产品安全综合检测仪型号：RZ-6802使用范围本测仪与相应项目的酶联免疫（ELISA）试剂盒配合，可对农产品的兽药残留，抗生素，食品非法添加类，食品毒素等项目进行快速定性或定量检测，支持酶抑制法进行农药残留检测，如农药残留，毒素类，药残类，激素类等项目的检测。技术参数波长范围：340-900nm测量通道：标准9通道光纤检测系统程序升级:U盘直接对仪器进行软件升级及数据备份.分辨率：0.001Abs测量范围:0.000-4.000A稳定性：&plusm...

恒温混匀仪型号：TS100TS100恒温混匀仪是一款由直流无刷电机和PID智能控温技术相结合的多用途恒温振荡器。其PID模糊控制技术能够的确保控温精度，并自动调整加热速率节省等待时间。TS100将恒温和振荡两种功能地结合在一起，大地缩短了实验操作的时间。是样品孵化、催化、混匀及保存等反应过程理想的自动化工具。具有加热、振荡、制冷等多用途功能，可以满足不同用户的需求。◆用户可独立关闭或开启恒温、振荡、定时功能，实现一机多用，提高设备利用率；◆采用金属模块，温度均匀性高，模块更换...

覆膜砂制样机型号：SAF-A本机用于树脂覆膜砂标准试样的制作。仪器采用试样上下加热的方法，使试样受热圴匀，加热温度由高精度温控仪独立控制，机电分离，便于操作。主要技术参数1.试样尺寸；抗拉试样（腰部截面尺寸）11.18×22.36（mm）抗弯试样(高×宽×长)11.18×22.36×70(mm)2.一次制模量3个3.电热器功率6×300W4.电源电压220V5.加热温度～300℃

COD测定试剂盒化学需氧量COD（ChemicalOxygenDemand）是以化学方法测量水样中需要被氧化的还原性物质的量。废水、废水处理厂出水和受污染的水中，能被强氧化剂氧化的物质（一般为有机物）的氧当量。在河流污染和工业废水性质的研究以及废水处理厂的运行管理中，它是一个重要的而且能较快测定的有机物污染参数，常以符号COD表示。化学需氧量高意味着水中含有大量还原性物质，其中主要是有机污染物。化学需氧量越高，就表示江水的有机物污染越严重，这些有机物污染的来源可能是农药、化工...